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光伏/半導體超純水設備設計特點
一、設備簡介
半導體超純水設備是應用於半導體生產零件清洗的超純水設備，需要符合特定的用水水質標準,半導體超純水設備出水水質要符合美國ASTM純水水質標準、中國電子工業電子級水質技術標準(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半導體工業用純水指標、集成電路水質標準。上海亚洲线精品一区二区三区八戒在滿足用戶用水標準的基礎上，在純水設備係統中水箱均設有液位控製係統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控製儀表、電氣采用PLC可編程控製器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。
二、設計標準及依據
1. 根據用戶提供的詳細水質報告“量身定製”。
2. 水處理設備技術條件《JB/T 2932-1999》
3. 反滲透水處理設備標準《CJ/T119-2000》
4. 低壓開關設備和控製設備成套裝置《IEC439-1 》
5. 實驗室超純水技術指標標準《GB6682-2008 》
6. 國家電子級超純水規格《GB/T11446.1-1997》
三、工藝流程
1、 原水－原水加壓泵－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－第一級反滲透－PH調節－中間水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水泵－EDI係統－超純水箱－純水泵－拋光裝置－終端超濾－用水點
四、設計特點
1. 係統采用全自動控製(同時亦可采用手動控製），係統運行時可設定自動反洗、再生程序；
2. 各單元接線均在工廠內統一完成，減少安裝調試時間；
3. 一級反滲透和二級反滲透設有回流管道，反滲透設備設有化學清洗裝置；
4. 管道一般采用UPVC材質；
5. 集成控製係統和集成儀表係統等，方便操作管理；
6. RO膜定時清洗 具有開機和定時清洗RO膜功能，延長RO膜使用壽命；
7. 水回收率 通過特殊的工藝設計，大幅提高了設備的回收率，最高可達70%；
8. 設備具有耗材更換自動提示功能，並且耗材的更換周期取決於水質和壓力的變化，而非根據耗材的使用時間，考慮到了各地水質的差異，設計更科學；
9. 自我保護功能 源水缺水自動停機保護功能同時具有水箱缺水自動產水、滿水自動停機功能。
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